公司新聞 |行業(yè)新聞 |
有機(jī)蒸發(fā)源，用于蒸鍍有機(jī)樣品，溫度范圍從25°C到500°C，加熱元件為MCH高溫陶瓷加熱器加熱溫度均勻，即使在坩堝邊緣也具有較高的加熱效率。所有蒸發(fā)源在出廠前均經(jīng)過溫度測試和除氣處理。
脈沖激光分子束沉積系統(tǒng)是高能脈沖(100ns) 電子束( 約1000 A,15 keV) 在靶材上穿透將近1 um，使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。對靶材的非平衡提取（燒灼）使等離子體的組成與靶材的化學(xué)計(jì)量組成一致。在條件下，靶材的化學(xué)計(jì)量與沉積薄膜的保持一致。所有的固態(tài)材料如金屬、半導(dǎo)體和絕緣體等
原理分子束外延的英文縮寫為MBE，這是一種在晶體基片上生長高質(zhì)量的晶體薄膜的新技術(shù)。在超高真空條件下，由裝有各種所需組分的爐子加熱而產(chǎn)生的蒸氣，經(jīng)小孔準(zhǔn)直后形成的分子束或原子束，直接噴射到適當(dāng)溫度的單晶基片上，同時(shí)控制分子束對襯底掃描，就可使分子或原子按晶體排列一層層地“長”在基片上形成薄膜。特點(diǎn)（
? ? ? ?分子束外延的英文縮寫為MBE，這是一種在晶體基片上生長高質(zhì)量的晶體薄膜的新技術(shù)。在超高真空條件下，由裝有各種所需組分的爐子加熱而產(chǎn)生的蒸氣，經(jīng)小孔準(zhǔn)直后形成的分子束或原子束，直接噴射到適當(dāng)溫度的單晶基片上，同時(shí)控制分子束對襯底掃描，就可使分子或原
聯(lián)系我們
電話：0519-85555956?手機(jī)：18915876086/18112337731?網(wǎng)址：m.gvfx.com.cn?郵箱：info@gcinno.com?地址：江蘇省常州市武進(jìn)經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)蘭香路8號常州石墨烯科技產(chǎn)業(yè)園3號樓2樓
國成儀器（常州）有限公司目前成熟并應(yīng)用于市場的產(chǎn)品有：MBE、蒸發(fā)源、rheed
蘇ICP備17023866號-1 | 網(wǎng)站地圖 XML地圖
